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通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。
刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。
离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，爱发科分子泵UTM-350保养，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。
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脉冲激光沉积系统PLD客户案例：某大学电信系脉冲激光沉积系统
1.系统功能：主要用于Mn氧化物等复杂材料膜。
2.涡轮分子泵真空度要求:真空度
3.样品尺寸:6英寸
4.基片旋转，加热温度：750℃
5.膜生长控制模式:镀率/厚度/时间控制模式
真空系统配置:超高真空系统配置:涡轮分子泵400
接口:DN100CF-F
极限真空:
氮气压缩比:gt;1X1011涡轮分子泵80
接口:DN63CF-F
极限真空:
氮气压缩比:gt;1X1011隔膜泵MVP040
口径:G1/4”
极限真空:≦5mbar
抽速:2.3m3/h
涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S，转速很高90，000rpm，极限真空很大1E-11mbar，对小分子气体具有更高的压缩比，实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100，000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用，推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.更多分子泵典型应用gt;gt;
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它的特点主要有： 1、泵腔内有可旋转的转子，转子的四周带有沟槽并用挡板隔开。每一个沟槽就相当于一个单级分子真空泵，后一级的入口与前一级的出口相连。 2、转子与泵壳之间有 的间隙，气体分子由入口进入泵腔，被转子携带到出口侧，经排气管道由前级泵抽走。 3、分子真空泵的优点是起动时间短，在分子流态下有很高的压缩比，能抽除各种气体和蒸汽，特别适于抽除较重的气体。
它的不足：抽速小，密封间隙太小，工作可靠性较差，易出机械故障等，因此除特殊需要外，实际上很少应用。曾一度被结构和制造简单，抽速大的扩散泵所代替。分子泵报价， 涡轮分子泵主要分为立式和卧式两种。卧式涡轮分子泵，这种结构的分子泵是双轴流的，吸气口在两组抽气单元的中央，气体吸入后，分别被左右两侧的叶列组合抽走。
立式涡轮分子泵，泵由泵壳、涡轮叶列组件和电动机等组成。现代涡轮分子泵转子和定子之间的间隙较大，通常在 lmm 左右，因此泵工作时很安全。接下来主要介绍这两种涡轮分子泵特点： 1、清洁，无油蒸汽返流； 2、使用方便； 3气体输送能力强； 4、适于超高真空应用； 5、高压力下性能良好； 6、循环的时间短；； 7、正常使用时间长； 8、设备费用高；9、对颗粒物或沉积物敏感； 10、噪音与振动； 11、破碎问题； 12、暴露大气易引起事故；
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东沙群岛爱发科分子泵UTM-350保养欢迎来电「在线咨询」由广州潽拓光电科技有限公司提供。广州潽拓光电科技有限公司是广东 广州 ,真空泵的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在潽拓光电领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创潽拓光电更加美好的未来。
